公司新闻
在半导体先进封装、面板高世代线与精密光学加工的良率竞争中，纳米级的高度差、微裂纹、压痕，往往是决定良率的关键细节——但用肉眼判读，或依赖常规明场、暗场显微镜，这些差异常常"看不出""判不准"，只能等到后道工序出了问题才追溯。
慕藤光依托在精密光学系统设计与微观成像领域的经验，自主研发微分干涉（DIC）成像光学系统，将干涉成像原理与产线检测需求结合，覆盖半导体晶圆、显示面板、精密光学元件等多种应用场景，为客户提供从物镜选型到成像方案的一体化配置。
微分干涉（DIC）成像系统
产品特性
Product Features
1
“看”更多，“判”的更准
See more to judge better
明场无法分辨的纳米级高度差，DIC以伪3D浮雕清晰呈现；暗场仅显示散射光点，DIC则同时呈现缺陷形貌、梯度方向与相对层次，直观区分凸起与凹陷，大幅降低误判与漏检。
明场
暗场
DIC
2
全孔径成像，解析更强
Full-aperture imaging for superior resolution
无需相位环遮挡，物镜NA得以100%发挥，横向分辨率与轴向灵敏度同步提升，尤其适用于晶圆背面、面板玻璃、光罩基板等低反差表面的微缺陷检测。
3
多模式灵活切换
Flexible multi-mode switching
基于DIC（微分干涉）偏振干涉光路设计，多数设备支持一键切换明场、偏光、DIC及荧光等多种观察模式，实现一机多用，满足不同应用场景需求。
系统结构图
4
工艺调参，有据可依
Image-evidenced process tuning
快速呈现研磨不均、微裂纹、孔洞、凸起及膜厚异常等影像证据，为CMP、抛光、清洗、镀膜等工艺调整提供直观且可追溯的图像判据。
面向多类制造场景
Multi-scenario manufacturing
01
半导体
晶圆研磨面
光刻胶线条
抛光后划痕
刻蚀沟槽侧壁
.......
02
显示面板
导电粒子
基板线路
彩色滤光片
玻璃表面等
......
03
精密加工
磁头研磨面
硬盘基板
光学元件表面等
......
搭配附件
MFlexible accessory pairing
光学系统
标配95mm齐焦距无限远光学系统，兼容主流显微镜平台，具备良好的扩展性与适配性；
物镜配置
选配长工作距离复消色差（APO）物镜（近红外/近紫外波段可选），有效消除场曲与色差，满足特殊材料观测对高保真成像的严苛要求；
灵活定制
支持超过80种物镜组合的自由选配，可根据实际需求按需定制，既保证性能最优，又避免不必要的支出；
从工业制造到精密检测，
慕藤光持续深耕视觉与光学核心能力，
为更多微观检测场景提供可靠成像支持。
// 关于慕藤光
慕藤光（Mvotem Optics）成立于2011年，是一家专注于微观精密场景下光学镜头、光学传感器和成像光学系统产品研发生产的光学产品公司。作为智能成像光学系统引领者，慕藤光致力于构建微观世界之美，以专业智慧发展光学技术。旗下产品覆盖光学镜头、工业光源、传感器、相机、图像软件、成像光学系统等七大板块，产品应用领域全方位覆盖半导体、光通讯、显示面板、精密测量、新能源、生物医疗等中高端设备场景，为下游应用提供了国内前所未有的智能化产品，帮助国产智能装备从中低端迈入高端竞争！
微信扫一扫
关注官方微信
微信扫一扫
联系在线客服